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粘接資訊消息，5月20日上海新陽（300236）舉辦2021年度網上業(yè)績說明會，公布了多項關于其光刻膠業(yè)務進展的信息。

在業(yè)績說明會上，其表示，公司2021年完成了幾款KrF光刻膠產品的研發(fā)、驗證并實現銷售，在手訂單中含有國內主流頭部芯片制造公司等大小客戶，覆蓋鋁線制程和銅線制程，用于邏輯、模擬等芯片的生產制造。由于客戶對于光刻膠的使用都會比較謹慎，目前還都是小批量使用，所以今年的銷售額可能不會很大，但明年用量可能會增加較多，后續(xù)增長空間較大。

此外，上海新陽還透露：公司現在已開始進行EUV光刻膠的前期摸索性基礎研發(fā)，主要進行EUV光刻膠的基礎理論、形成機理、性能觀察、配方篩選、制備方法等基礎性研發(fā)工作。其還表示，公司對于光刻膠研發(fā)投入決心非常大，已進行全面布局，公司光刻膠ArF、ArF-i研發(fā)進展順利，已經形成兩個系列試驗產品，樣品已經進入客戶端進行測試。

眾所周知，光刻膠是芯片關鍵材料中的重點所在，光刻膠是光刻成像的承載介質，其作用是利用光化學反應的原理將光刻系統(tǒng)中經過衍射、濾波后的光信息轉化為化學能量，進而完成掩模圖形的復制。

光刻膠一般由聚合物骨架、光致酸產生劑或光敏化合物、溶劑，以及顯影保護基團、刻蝕保護基團等其他輔助成分組成。光刻膠是微電子技術中微細圖形加工的關鍵材料之一，特別是近年來大規(guī)模和超大規(guī)模集成電路的發(fā)展，更是大大促進了光刻膠的研究開發(fā)和應用。

一直以來，光刻膠都是芯片關鍵材料中的重點所在，由于國內光刻膠領域起步較晚，技術嚴重落后等原因，導致我國半導體芯片領域的光刻膠需求主要由外資企業(yè)來滿足，日美廠商占據了約87％的份額，國內光刻膠產品進口比例高達九成。

如今上海新陽的KrF光刻膠產品成功打入國內主流芯片公司，意味著國內光刻膠產業(yè)再獲得重大突破，實現國產替代指日可待。

上海新陽半導體材料股份有限公司創(chuàng)立于1999年7月，2011年6月在深圳證券交易所創(chuàng)業(yè)板上市。二十年來，上海新陽已申請授權國家專利210項，其中國內發(fā)明專利102項，國際發(fā)明專利8項，開發(fā)研制出140多種電子電鍍與電子清洗系列功能性化學材料，產品廣泛應用于集成電路制造、3D-IC先進封裝、IC傳統(tǒng)封測等領域，是中國半導體功能性化學材料和應用技術與服務的知名品牌。公司已立項研發(fā)集成電路制造用高分辨率193nm ArF光刻膠及配套材料與應用技術，擁有完整自主可控知識產權的光刻膠產品與應用即將形成公司的第三大核心技術，公司在國內半導體功能性化學材料領域的地位將更加穩(wěn)固。

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